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以下关于银汞合金充填Ⅰ类洞预备说法不对的是
A: 磨牙颊(腭)面点隙沟龋范围小时可制成单面洞
B: 磨牙颊(腭)面不承受咀嚼压力,且位于自洁区,窝洞可制成洞口略小于洞底的洞形,不作预防性扩展
C: 面窝沟单面洞制备要求为典型的盒状洞形,侧壁略向洞口聚合,可增加倒凹固位
D: 下颌第一前磨牙,洞底应与洞壁垂直
E: 当面窝沟龋与颊(腭)面的沟裂龋相连,或颊(腭)面龋损范围较大,使面边缘箱脆弱时,应备成颊(腭)洞
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